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J-GLOBAL ID：200902224511615000   整理番号：05A0845524

陽極酸化とエッチングプロセスによるGaAs,AlGaAs微細加工の検討

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著者 (5件)：
塩崎奈々子

塩崎奈々子 について

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佐藤威友

佐藤威友 について

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赤沢正道

赤沢正道 について

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長谷川英機

長谷川英機 について

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橋詰保

橋詰保 について


資料名：
応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)

応用物理学会学術講演会講演予稿集 について


巻： 66th  号： 3  ページ： 1238  発行年： 2005年09月07日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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*ヒ化ガリウム

ヒ化ガリウム について

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準シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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陽極酸化

陽極酸化 について


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分類 (1件)：
分類
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固体デバイス製造技術一般 
(NC03030V)

固体デバイス製造技術一般 について

タイトルに関連する用語 (5件)：
タイトルに関連する用語
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陽極酸化

陽極酸化 について

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エッチングプロセス

エッチングプロセス について

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GaAs

GaAs について

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AlGaAs

AlGaAs について

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微細加工

微細加工 について


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