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J-GLOBAL ID：200902225980222830   整理番号：09A0375624

アモルファスZrP₃O_x薄膜におけるプロトン伝導率の膜厚依存性

著者 (3件)： 小川幸太 (北大 工) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 電気化学会大会講演要旨集
巻： 76th  ページ： 298  発行年： 2009年03月29日 
JST資料番号： Y0048A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ジルコニウム化合物 ,  *リン酸塩 ,  非晶質 ,  スピンコーティング ,  加水分解 ,  焼成 ,  *固体電解質 ,  *プロトン伝導 ,  電気伝導率 ,  膜厚 ,  電気化学インピーダンス ,  X線光電子スペクトル ,  Arrheniusの式 ,  温度依存性 ,  活性化エネルギー ,  リン酸ジルコニウム ,  固体電解質皮膜 ,  交流インピーダンス法 ,  膜厚依存性
準シソーラス用語： アモルファス

分類 (2件)： 塩  (CD01050V) ,  固体中の拡散一般  (BL06021L)

タイトルに関連する用語 (4件)： アモルファス ,  薄膜 ,  プロトン伝導率 ,  膜厚依存性