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J-GLOBAL ID：200902237010311057   整理番号：08A0945056

グリコール水溶液を用いた陽極酸化によるGaN表面の電気的・光学的安定化

著者 (6件)： 塩崎奈々子 (北大 量子集積エレクトロニクス研究セ) ,  塩崎奈々子 (北大) ,  佐藤威友 (北大 量子集積エレクトロニクス研究セ) ,  佐藤威友 (北大) ,  橋詰保 (北大 量子集積エレクトロニクス研究セ) ,  橋詰保 (北大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 3  ページ： 1256  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *窒化ガリウム ,  安定化 ,  *陽極酸化処理 ,  水溶液 ,  *HEMT ,  光ルミネセンス ,  紫外線照射 ,  *表面準位 ,  化合物半導体 ,  *不動態化 ,  脂肪族アルコール ,  ジオール ,  発光強度 ,  *改変
準シソーラス用語： GaN ,  パッシベーション ,  湿式プロセス

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  トランジスタ  (NC03070N)

物質索引 (2件)： グリコール ,  酒石酸

タイトルに関連する用語 (6件)： グリコール ,  水溶液 ,  陽極酸化 ,  GaN ,  光学 ,  安定化