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J-GLOBAL ID：200902252458622494   整理番号：09A0594854

Zr-Si合金に生成するアノード酸化皮膜の誘電的性質

著者 (3件)： 小山瞬 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 化学系学協会北海道支部冬季研究発表会講演要旨集
巻： 2009  ページ： 36  発行年： 2009年01月26日 
JST資料番号： L6025A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  誘電性 ,  *ジルコニウム合金 ,  ケイ素含有合金 ,  誘電体薄膜 ,  *静電容量 ,  *化成皮膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： Zr ,  Si合金 ,  アノード酸化皮膜 ,  誘電的性質