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J-GLOBAL ID:200902256312197266   整理番号:09A0404460

フッ素修飾による疎水性ポーラスシリカの創製と酸化チタン光触媒担体への応用

著者 (5件):
資料名:
巻: 103rd  ページ: 96  発行年: 2009年03月30日 
JST資料番号: S0874A  ISSN: 1343-9936  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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フッ素含有シリカアルコキシドをメソポーラスシリカ細孔内に化学修飾することにより,細孔構造・高表面積及び耐熱性を維持したまま細孔内を疎水的に改質することに成功した。また,この疎水性ポーラスシリカを酸化チタン光触媒の担体として利用したところ,未修飾の担体に比べ有機物をより優先的に吸着し,水中の有機物分解に非常に高い光触媒活性を示すことが明らかとなった。(著者抄録)
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分類 (2件):
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その他の触媒  ,  光化学反応 

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