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J-GLOBAL ID：200902264365678790   整理番号：09A0284560

低化成電圧におけるタンタルアノード酸化皮膜の誘電的性質

著者 (4件)： 小宮山正造 (北大 工) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  泉知夫 (キャボットスーパーメタル) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 表面技術協会講演大会講演要旨集
巻： 119th  ページ： 40-41  発行年： 2009年03月02日 
JST資料番号： Y0050A  ISSN： 0917-2947  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *タンタル ,  アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  電圧 ,  *誘電率 ,  誘電損失 ,  *化成皮膜

分類 (2件)： 化成処理  (WC08050J) ,  電気的性質  (WB02010Y)

タイトルに関連する用語 (3件)： タンタル ,  アノード酸化皮膜 ,  誘電的性質