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J-GLOBAL ID：200902266530888349   整理番号：09A1001557

フッ素修飾による疎水的メソポーラスシリカ表面の構築と酸化チタン光触媒活性に与える影響

著者 (4件)： 桑原泰隆 (大阪大 工) ,  亀川孝 (大阪大 工) ,  森浩亮 (大阪大 工) ,  山下弘巳 (大阪大 工)
資料名： 日本金属学会講演概要  (Collected Abstracts of the Meeting of the Japan Institute Metals)
巻： 145th  ページ： 142  発行年： 2009年09月15日 
JST資料番号： S0988A  ISSN： 1342-5730  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： フッ素 ,  化学修飾 ,  多孔質体 ,  *酸化チタン ,  疎水性 ,  触媒活性 ,  光触媒 ,  耐熱性 ,  触媒担体 ,  焼成 ,  吸着 ,  光分解 ,  二酸化ケイ素 ,  メソポーラスシリカ ,  *光触媒活性
準シソーラス用語： シリカ ,  修飾【化学】

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (1件)： トリエトキシフルオロシラン

タイトルに関連する用語 (6件)： フッ素 ,  修飾 ,  メソポーラスシリカ ,  構築 ,  酸化チタン ,  光触媒活性