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J-GLOBAL ID：200902275854367430   整理番号：07A0255247

CoFe膜の軟磁性特性へのパルス電着効果

Effect of Pulsed Electrodeposition to Soft Magnetic Properties of CoFe Film
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著者 (5件)：
HIRAIWA Toshiki

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(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

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LIN Bingrong

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(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

Waseda Univ., Tokyo, JPN について

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NAKANISHI Takuya

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(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

Waseda Univ., Tokyo, JPN について

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SUGIYAMA Atsushi

SUGIYAMA Atsushi について

(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

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OSAKA Tetsuya

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(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

Waseda Univ., Tokyo, JPN について


資料名：
International Symposium on Creation of Magnetic Recording Materials with Nano-Interfacial Technologies. Abstracts  (International Symposium on Creation of Magnetic Recording Materials with Nano-Interfacial Technologies. Abstracts)

International Symposium on Creation of Magnetic Recording Materials with Nano-Interfacial Technologies. Abstracts について


ページ： 28  発行年： 2005年 
JST資料番号： M20060010  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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磁性材料 
(NA04040H)

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