特許
J-GLOBAL ID：200903086447429230

炭素ドープ酸化チタン層を有する基体の製造方法

発明者：
古谷 正裕

古谷 正裕 について


出願人/特許権者：
財団法人電力中央研究所

財団法人電力中央研究所 について


代理人 (2件)： 栗原 浩之 ,  村中 克年
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2004018305
公開番号（公開出願番号）：WO2005-056865
出願日： 2004年12月08日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：
耐久性(高硬度、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐薬品性、耐熱性)に優れ且つ可視光応答型光触媒として機能する炭素ドープ酸化チタン層を有する基体の製造方法を提供する。少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物又は酸化チタンからなる基体の表面をその表面温度が900〜1500°Cとなるように炭化水素を主成分とするガスの燃焼ガス雰囲気中で、或いは炭化水素を主成分とするガス雰囲気中で加熱処理するか、又は該基体の表面に炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を直接当ててその基体の表面温度が900〜1500°Cとなるように加熱処理して炭素ドープ酸化チタン層を形成することにより炭素ドープ酸化チタン層を有する基体が得られる。
請求項（抜粋）：
少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物又は酸化チタンからなる基体の表面に炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を直接当てて該基体の表面温度が900〜1500°Cとなるように加熱処理するか、又は該基体の表面をその表面温度が900〜1500°Cとなるように炭化水素を主成分とするガスの燃焼ガス雰囲気中で加熱処理して炭素ドープ酸化チタン層を形成することを特徴とする炭素ドープ酸化チタン層を有する基体の製造方法。
IPC (7件)：
C23C 8/28 ,  C23C 28/04 ,  B01D 53/86 ,  B01J 23/22 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/08 ,  B01J 37/12
FI (8件)：
C23C8/28 ,  C23C28/04 ,  B01D53/36 J ,  B01D53/36 H ,  B01J23/22 A ,  B01J35/02 J ,  B01J37/08 ,  B01J37/12
Fターム (79件)：
4D048AA22 ,  4D048BA03X ,  4D048BA05X ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07X ,  4D048BA08Y ,  4D048BA21Y ,  4D048BA23X ,  4D048BA24Y ,  4D048BA25Y ,  4D048BA26Y ,  4D048BA36Y ,  4D048BA41X ,  4D048BB01 ,  4D048BB03 ,  4D048EA01 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA14B ,  4G169BA17 ,  4G169BA21C ,  4G169BA48A ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC22B ,  4G169BC50A ,  4G169BC50B ,  4G169BC51B ,  4G169BC54A ,  4G169BC54B ,  4G169BC55A ,  4G169BC58A ,  4G169BC59A ,  4G169BC66A ,  4G169BD04A ,  4G169BD04B ,  4G169BD05A ,  4G169BE01C ,  4G169BE02C ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA17 ,  4G169DA06 ,  4G169EA02X ,  4G169EA02Y ,  4G169EA08 ,  4G169ED03 ,  4G169ED04 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169FB29 ,  4G169FB44 ,  4G169FC02 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08 ,  4G169HA01 ,  4G169HA02 ,  4G169HA09 ,  4G169HB01 ,  4G169HC02 ,  4G169HD04 ,  4G169HD12 ,  4G169HD13 ,  4G169HE02 ,  4G169HE03 ,  4G169HE06 ,  4K044AA06 ,  4K044AB01 ,  4K044BA12 ,  4K044BA18 ,  4K044BB03 ,  4K044BC02 ,  4K044CA12
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 光触媒体
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-018551   出願人：株式会社豊田中央研究所
  • 光触媒物質および光触媒体
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-017625   出願人：株式会社豊田中央研究所
  • 光触媒体
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-184955   出願人：株式会社豊田中央研究所
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