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J-GLOBAL ID：201002267197313853   整理番号：10A0371990

ジルコニウム合金に生成するアノード酸化皮膜の構造と誘電的性質

著者 (5件)： 小山瞬 (北大 大学院) ,  青木芳尚 (北大 大学院) ,  永田晋二 (東北大 金属材料研) ,  木村久道 (東北大 金属材料研) ,  幅崎浩樹 (北大 大学院)
資料名： 電気化学会大会講演要旨集
巻： 77th  ページ： 277  発行年： 2010年03月26日 
JST資料番号： Y0048A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ジルコニウム合金 ,  アノード酸化 ,  *酸化膜 ,  物理蒸着 ,  酸化ジルコニウム ,  ケイ素含有合金 ,  マグネトロンスパッタリング ,  非晶質合金 ,  透過型電子顕微鏡 ,  構造解析 ,  原子発光分析 ,  Rutherford散乱分光法 ,  Raman分光法 ,  化学組成 ,  電気化学インピーダンス ,  電圧依存性 ,  結晶化 ,  正方晶系 ,  静電容量 ,  *陽極酸化皮膜 ,  交流インピーダンス ,  グロー放電発光分析 ,  *化成皮膜
準シソーラス用語： GDOES【分光分析】

分類 (2件)： 電極過程  (CB07040U) ,  電解装置  (XE02030E)

タイトルに関連する用語 (3件)： ジルコニウム合金 ,  アノード酸化皮膜 ,  誘電的性質