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J-GLOBAL ID：201102224618636670   整理番号：11A1490488

周波数領域型低コヒーレンス干渉計を用いたSi基板の非接触温度分布計測

著者 (6件)： 堤隆嘉 (和歌山大) ,  太田貴之 (名城大 理工) ,  菊地邦友 (和歌山大) ,  土谷茂樹 (和歌山大) ,  伊藤昌文 (名城大 理工) ,  堀勝 (名大 院)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 72nd  ページ： ROMBUNNO.31A-ZJ-9  発行年： 2011年08月16日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマ処理 ,  *基板温度 ,  *温度測定 ,  非接触測定 ,  温度分布 ,  ウエハ【IC】 ,  干渉計 ,  光干渉計 ,  シリコンウエハ
準シソーラス用語： ケイ素基板 ,  プラズマプロセス ,  プラズマ照射

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 周波数領域 ,  コヒーレンス ,  干渉計 ,  Si基板 ,  非接触 ,  温度分布 ,  計測