特許

J-GLOBAL ID：201103049863026019

金属埋め込み方法及び凹部に金属を堆積させるための装置

発明者： 野田 優 ,  高嶋 智史
出願人/特許権者： キヤノンアネルバ株式会社 ,  野田 優
代理人 (5件)： 岡部 讓 ,  岡部 正夫 ,  加藤 伸晃 ,  朝日 伸光 ,  三山 勝巳
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009052543
公開番号（公開出願番号）：WO2009-102056
出願日： 2009年02月16日
公開日（公表日）： 2009年08月20日
要約：

本発明は、トレンチ(溝)やビア(孔)といった凹部が微細であっても、該凹部内に金属を埋め込む技術を提供する。本発明の一実施形態では、目的材料である金属蒸気と、金属をエッチングするハロゲン含有ガスと、上記金属元素と上記ハロゲン元素からなる金属ハロゲン化物蒸気と、を基板に供給し、上記凹部内に金属ハロゲン化物層を形成し、該金属ハロゲン化物層の下に上記金属を堆積させる。このような方法により、上記課題を解決することができる。

請求項（抜粋）：

凹部が形成された基板を用意する工程と、 気体状態の金属からなる金属蒸気、該金属をエッチングするハロゲンを少なくとも含むハロゲン含有ガス、および気体状態の、前記金属の元素と前記ハロゲンの元素との化合物である金属ハロゲン化物からなる金属ハロゲン化物蒸気とを前記基板に供給して、前記凹部において前記金属ハロゲン化物を堆積させて金属ハロゲン化物層を形成し、該金属ハロゲン化物層の下に前記金属を堆積させる工程と を有することを特徴とする金属埋め込み方法。

IPC (5件)：

H01L 21/285 ,  H01L 21/320 ,  H01L 21/28 ,  C23C 14/14 ,  H01L 23/52

FI (5件)：

H01L21/285 S ,  H01L21/88 B ,  H01L21/28 301R ,  C23C14/14 D ,  H01L21/88 M

Fターム (46件)：

4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029AA29 ,  4K029BA08 ,  4K029BB03 ,  4K029BD02 ,  4K029CA05 ,  4K029DA04 ,  4K029DA08 ,  4K029DA12 ,  4K029DC03 ,  4K029DC25 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  4K029EA09 ,  4K029FA04 ,  4M104BB04 ,  4M104DD39 ,  4M104DD40 ,  4M104DD42 ,  4M104DD49 ,  4M104FF13 ,  4M104FF21 ,  4M104HH14 ,  5F033HH11 ,  5F033HH31 ,  5F033JJ11 ,  5F033JJ31 ,  5F033MM01 ,  5F033MM05 ,  5F033NN03 ,  5F033PP16 ,  5F033PP19 ,  5F033PP24 ,  5F033QQ37 ,  5F033RR04 ,  5F033RR06 ,  5F033WW00 ,  5F033WW03 ,  5F033WW05 ,  5F033WW06 ,  5F033XX03 ,  5F033XX33 ,  5F033XX34

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3727878号公報
  
• 特許第3653053号公報