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J-GLOBAL ID：201202220825036757   整理番号：12A1437097

プラズマ支援ミストCVDを用いた酸化亜鉛薄膜の形成と表面形状評価

著者 (3件)： 竹中弘祐 (阪大 接合研) ,  奥村祐介 (阪大 接合研) ,  節原裕一 (阪大 接合研)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.13P-E2-4  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマCVD ,  薄膜成長 ,  蒸着膜 ,  *酸化亜鉛 ,  化合物半導体 ,  誘導結合プラズマ ,  アルゴン ,  酸素 ,  混合気体 ,  半導体薄膜 ,  電子顕微鏡観察 ,  *ミストCVD ,  走査電子顕微鏡法 ,  表面形状 ,  プラズマ

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： 酢酸亜鉛

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  支援 ,  ミストCVD ,  酸化亜鉛薄膜 ,  表面形状 ,  評価