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J-GLOBAL ID：201202277869405220   整理番号：12A1438373

ポリスチレン微小球の自己組織化配列とリソグラフィ技術を利用した半導体加工基板の作製

著者 (4件)： 神保亮平 (北大 量集セ) ,  今井雄大 (北大 量集セ) ,  谷田部然治 (北大 量集セ) ,  佐藤威友 (北大 量集セ)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Meeting. Japan Society of Applied Physics (CD-ROM))
巻： 73rd  ページ： ROMBUNNO.11P-F2-12  発行年： 2012年08月27日 
JST資料番号： Y0055B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： ミクロスフェア ,  *ポリスチレン ,  自己組織化 ,  *半導体プロセス ,  *フォトリソグラフィー ,  基板 ,  フォトレジスト ,  パターン形成
準シソーラス用語： 半導体加工 ,  微小球

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： ポリスチレン ,  微小球 ,  自己組織化 ,  リソグラフィ ,  半導体加工 ,  作製