特許

J-GLOBAL ID：201203060940992226

パターン状電子源の製造方法、パターン状電子源

発明者： 野田 優 ,  白鳥 洋介
出願人/特許権者： 国立大学法人 東京大学
代理人 (6件)： 牛木 護 ,  吉田 正義 ,  今枝 弘充 ,  梅村 裕明 ,  小合 宗一 ,  高橋 知之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-133888
公開番号（公開出願番号）：特開2011-258502
出願日： 2010年06月11日
公開日（公表日）： 2011年12月22日
要約：

【課題】容易に微細パターンを形成することができるパターン状電子源の製造方法、パターン状電子源を提供する。【解決手段】表面が導電性を有する第1の基板2上に第1のパターン5を形成し、当該第1のパターン5に沿って1または2以上の第1のエミッタ10を設けて第1のフィールドエミッション部1を形成するステップと、前記第1のエミッタ10から電子線を照射して表面が導電性を有する第2の基板16上に第2のパターン18を形成し、当該第2のパターン18に沿って1または2以上の第2のエミッタを設けて第2のフィールドエミッション部15を形成するステップとを備え、前記第2のフィールドエミッション部15を複数形成してパターン状電子源25を製造する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

表面が導電性を有する第1の基板上に第1のパターンを形成し、当該第1のパターンに沿って1または2以上の第1のエミッタを設けて第1のフィールドエミッション部を形成するステップと、 前記第1のフィールドエミッション部から電子線を照射して、表面が導電性を有する第2の基板上に第2のパターンを形成し、当該第2のパターンに沿って1または2以上の第2のエミッタを設けて第2のフィールドエミッション部を形成するステップと を備え、 前記第2のフィールドエミッション部を複数形成することを特徴とするパターン状電子源の製造方法。

IPC (3件)：

H01J 9/02 ,  H01J 29/04 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01J9/02 B ,  H01J29/04 ,  H01L21/30 541B

Fターム (22件)：

5C031DD17 ,  5C031DD19 ,  5C127AA01 ,  5C127AA05 ,  5C127BA09 ,  5C127BA13 ,  5C127BA15 ,  5C127BB02 ,  5C127BB07 ,  5C127CC02 ,  5C127CC69 ,  5C127DD07 ,  5C127DD08 ,  5C127DD12 ,  5C127DD42 ,  5C127DD43 ,  5C127DD57 ,  5C127DD59 ,  5C127DD69 ,  5C127EE15 ,  5F056CB01 ,  5F056EA02