特許
J-GLOBAL ID:201303037545813997

カーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法、並びに、カーボンナノチューブ及び水素の同時製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  平野 裕之
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2010065514
公開番号(公開出願番号):WO2011-030821
出願日: 2010年09月09日
公開日(公表日): 2011年03月17日
要約:
本発明のカーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法は、炭素原子及び水素原子を含有し加熱状態で分解される炭素源と、該炭素源からカーボンナノチューブ及びH2を生成するための触媒と、を使用して、反応器中に配置された加熱状態の支持体上に上記カーボンナノチューブを合成し、同時に上記炭素源から上記H2を合成するカーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法であって、上記炭素源を含む原料ガスを、上記触媒を担持させた上記支持体上に流通させることで、上記支持体上に上記カーボンナノチューブを合成し、同時に気流中に上記H2を合成する合成工程を有することを特徴とする方法である。
請求項(抜粋):
炭素原子及び水素原子を含有し加熱状態で分解される炭素源と、該炭素源からカーボンナノチューブ及びH2を生成するための触媒と、を使用して、反応器中に配置された加熱状態の支持体上に前記カーボンナノチューブを合成し、同時に前記炭素源から前記H2を合成するカーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法であって、 前記炭素源を含む原料ガスを、前記触媒を担持させた前記支持体上に流通させることで、前記支持体上に前記カーボンナノチューブを合成し、同時に気流中に前記H2を合成する合成工程を有することを特徴とする、カーボンナノチューブ及び水素の同時製造方法。
IPC (5件):
C01B 31/02 ,  B01J 37/08 ,  C01B 3/26 ,  C01B 3/30 ,  B01J 23/745
FI (5件):
C01B31/02 101F ,  B01J37/08 ,  C01B3/26 ,  C01B3/30 ,  B01J23/74 301M
Fターム (69件):
4G140DA03 ,  4G140DB02 ,  4G140DB05 ,  4G140DC01 ,  4G140DC02 ,  4G140DC05 ,  4G140DC07 ,  4G146AA11 ,  4G146AA12 ,  4G146AC03B ,  4G146AD23 ,  4G146AD24 ,  4G146AD25 ,  4G146AD29 ,  4G146AD30 ,  4G146AD32 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB22 ,  4G146BC08 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44 ,  4G146CB29 ,  4G146DA03 ,  4G146DA13 ,  4G146DA25 ,  4G146DA40 ,  4G146DA46 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA01B ,  4G169BA17 ,  4G169BC10A ,  4G169BC16A ,  4G169BC33A ,  4G169BC35A ,  4G169BC50A ,  4G169BC51A ,  4G169BC54A ,  4G169BC56A ,  4G169BC57A ,  4G169BC62A ,  4G169BC65A ,  4G169BC66B ,  4G169BD04A ,  4G169BD05A ,  4G169BD06A ,  4G169CB81 ,  4G169DA08 ,  4G169EA01X ,  4G169EA02X ,  4G169EA03X ,  4G169EA06 ,  4G169EA08 ,  4G169EA11 ,  4G169EA18 ,  4G169FA01 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169FB03 ,  4G169FB14 ,  4G169FB29 ,  4G169FB30 ,  4G169FB57 ,  4G169FB77

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