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J-GLOBAL ID：201402233395086363   整理番号：14A0064755

ナノポーラス材料の新展開 ソフト化学的手法を用いたナノポーラス材料の合成と細孔の化学修飾

著者 (3件)： 武井貴弘 (山梨大 大学院医学工学総合研究部 クリスタル科学研究セ) ,  三浦章 (山梨大 大学院医学工学総合研究部 クリスタル科学研究セ) ,  熊田伸弘 (山梨大 大学院医学工学総合研究部 クリスタル科学研究セ)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 65  号： 1  ページ： 2-6  発行年： 2014年01月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノポーラス材料は,細孔サイズが2~50nmのメソ多孔体のうち細孔が小さな領域に相当する。メソ多孔体であるメソポーラスシリカのうち,非イオン性界面活性剤で作製したメソポーラスシリカは界面活性剤分子が長いためその細孔径がおよそ7~8nmで,シリカ壁に微小なミクロ孔を持つ。また,界面活性剤を溶媒抽出法によって除去したメソポーラスシリカは細孔表面がヒドロキシル基に富み,そのために比較的反応性に富む。本稿では,このようなメソポーラスシリカの細孔内部に他の物質を修飾して機能性を持たせる活用法として,シリル化による表面グラフト化と種々の吸着特性,シリル化メソポーラスシリカとナノ細孔での金属との複合化,およびCVD法によるメソポーラスシリカ-カーボン複合化について解説する。

シソーラス用語： 多孔質体 ,  化学反応 ,  化学合成 ,  *化学修飾 ,  *細孔構造 ,  界面活性剤 ,  シリル化 ,  グラフト共重合 ,  表面反応 ,  表面改質 ,  吸着 ,  細孔 ,  化学蒸着 ,  複合材料 ,  比表面積 ,  水素吸蔵 ,  遷移金属 ,  炭素材 ,  転写 ,  *二酸化ケイ素 ,  ヒドロキシ基 ,  ナノポーラス材料 ,  *メソポーラスシリカ ,  表面グラフト化 ,  ナノ細孔 ,  水素吸着 ,  *ソフト化学合成
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  *シリカ ,  *ソフト化学

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

引用文献 (18件)：

• 1) T. Yanagisawa, T. Shimizu, K. Kuroda, C. Kato ; Bull. Chem. Soc. Jpn., 63, 1535 (1990).
• 2) C. T. Kresge, M. E. Leonowicz, W. J. Roth, J. C. Vartuli, J. S. Beck ; Nature, 359, 710 (1992).
• 3) T. Takei, O. Houshito, Y. Yonesaki, N. Kumada, N. Kinomura ; J. Solid State Chem., 180, 1180 (2007).
• 4) G. P. Knowles, J. V. Graham, S. W. Delaney, A. L. Chaffee ; Fuel Processing Technol., 86, 1435 (2005).
• 5) X. Feng, G. E. Fryxell, L.-Q. Wang, A. Y. Kim, J. Liu, K. M. Kemner ; Science, 276, 923 (1997).

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノポーラス材料 ,  展開 ,  ソフト化学 ,  手法 ,  細孔 ,  化学修飾