文献

J-GLOBAL ID：201402247272836784   整理番号：14A1117081

熱CVD法による酸化物基板上へのFeナノワイヤの作製

著者 (8件)： 川人愛子 (北大) ,  柳瀬隆 (北大 FCC) ,  遠堂敬 (北大) ,  石岡準也 (北大) ,  柴山環樹 (北大) ,  渡辺精一 (北大) ,  長浜太郎 (北大) ,  島田敏宏 (北大)
資料名： 日本セラミックス協会秋季シンポジウム講演予稿集(CD-ROM)
巻： 27th  ページ： ROMBUNNO.2P036  発行年： 2014年08月25日 
JST資料番号： L2240B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 熱CVD ,  *ナノワイヤ ,  *鉄 ,  基板 ,  *アスペクト比 ,  塩化鉄 ,  セラミック ,  酸化イットリウム ,  酸化ジルコニウム ,  遷移金属触媒 ,  金 ,  アルミナ ,  結晶方位 ,  結晶面 ,  ナノ粒子 ,  気相成長 ,  YSZ【セラミック】

分類 (1件)： 金属の結晶成長  (BK13030M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 熱CVD ,  酸化物 ,  Fe ,  ナノワイヤ ,  作製