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J-GLOBAL ID：201402270676968996   整理番号：14A1100642

Co/SiO₂/Siのレーザー照射誘起周期的表面構造の制御と機能特性

著者 (6件)： 高野祐輔 (北大 院工学院) ,  柴山環樹 (北大) ,  谷津茂男 (北大) ,  吉田裕 (北大) ,  石岡準也 (北大) ,  渡辺精一 (北大)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 75th  ページ： ROMBUNNO.19P-PA2-6  発行年： 2014年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： コバルト ,  金属薄膜 ,  二酸化ケイ素 ,  ケイ素 ,  半導体 ,  *レーザ照射 ,  *周期構造 ,  *表面構造 ,  スパッタ蒸着 ,  磁気光学効果 ,  走査電子顕微鏡 ,  *ナノ構造 ,  *複合膜 ,  *構造
準シソーラス用語： シリコン

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： CO ,  SiO2 ,  Si ,  レーザー照射 ,  誘起 ,  表面構造 ,  機能特性