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J-GLOBAL ID：201502200295135394   整理番号：15A1045273

結晶性La₂O₃/Ge(111)高品質界面のXPS分析

著者 (7件)： 金島岳 (大阪大 基礎工) ,  野平博司 (東京都市大 工) ,  銭高真人 (大阪大 基礎工) ,  小林太朗 (大阪大 基礎工) ,  山城陸 (大阪大 基礎工) ,  山田晋也 (大阪大 基礎工) ,  浜屋宏平 (大阪大 基礎工)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 76th  ページ： ROMBUNNO.14A-4C-7  発行年： 2015年08月31日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ゲルマニウム ,  *酸化ランタン ,  *X線光電子スペクトル ,  X線光電子分光法 ,  パルスレーザ蒸着 ,  酸化ゲルマニウム ,  表面準位 ,  誘電体薄膜 ,  高誘電率薄膜
準シソーラス用語： high-k膜 ,  PLD【蒸着】 ,  界面準位

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 結晶性 ,  La2O3 ,  Ge ,  高品質 ,  界面 ,  XPS分析