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J-GLOBAL ID：201502288952089385   整理番号：15A0184596

ナノワイヤのCVD成長における酸化物基板上の核形成の影響

著者 (9件)： 島田敏宏 (北大) ,  川人愛子 (北大) ,  田村貴大 (北大) ,  XIE W. (北大) ,  石岡準也 (北大) ,  柴山環樹 (北大) ,  渡辺精一 (北大) ,  柳瀬隆 (北大) ,  長浜太郎 (北大)
資料名： セラミックス基礎科学討論会講演要旨集  (Preprints of the Symposium on Basic Science of Ceramics)
巻： 53rd  ページ： 204  発行年： 2015年01月08日 
JST資料番号： L1357A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *鉄 ,  *ナノワイヤ ,  *化学蒸着 ,  基板 ,  酸化物 ,  核形成

分類 (1件)： 金属の結晶成長  (BK13030M)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノワイヤ ,  CVD ,  成長 ,  酸化物 ,  核形成