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J-GLOBAL ID：201602212462274865   整理番号：16A0944747

silicalite-1膜への熱分解炭素修飾における炭素源の影響

著者 (4件)： 酒井求 (早大 先進理工) ,  戸巻圭祐 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 48th  ページ： ROMBUNNO.C301  発行年： 2016年09月06日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *合成ゼオライト ,  炭化水素 ,  *膜 ,  *シリカライト ,  炭素材 ,  *無機分離膜 ,  水熱合成 ,  析出 ,  *表面改質 ,  性能 ,  分離膜 ,  *シリカライト-1 ,  熱分解炭素 ,  炭素源 ,  分離性能 ,  *MFI型ゼオライト ,  アルカン ,  アルキルベンゼン
準シソーラス用語： *MFIゼオライト ,  炭素析出

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  合成鉱物  (CD01040K)

物質索引 (4件)： n-ヘプタン ,  2-メチルペンタン ,  p-キシレン ,  1-ヘキセン

タイトルに関連する用語 (3件)： 熱分解炭素 ,  修飾 ,  炭素源