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J-GLOBAL ID：201802223736062354   整理番号：18A1849540

ナノパームポロメトリーを用いたsilicalite-1膜の拡散と脱着の評価

著者 (4件)： 小林玄輝 (早大 先進理工) ,  酒井求 (早稲田大) ,  松方正彦 (早大 先進理工) ,  松方正彦 (早大 理工総研)
資料名： 化学工学会秋季大会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会秋季大会(CD-ROM))
巻： 50th  ページ： ROMBUNNO.CA213  発行年： 2018年09月18日 
JST資料番号： L0827B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *薄膜 ,  炭化水素 ,  脱着 ,  ケイ酸塩 ,  水熱合成 ,  分離係数 ,  *膜分離 ,  *ゼオライト膜 ,  アルカン

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (2件)： n-ヘキサン ,  2,3-ジメチルブタン

タイトルに関連する用語 (3件)： 拡散 ,  脱着 ,  評価