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J-GLOBAL ID：202102278340546552   整理番号：21A0961173

電場印加反応場における低温での三元触媒反応

著者 (6件)： 重本彩香 (早稲田大) ,  大森裕貴 (早稲田大) ,  比護拓馬 (早稲田大) ,  小河脩平 (早稲田大) ,  植西徹 (トヨタ自動車) ,  関根泰 (早稲田大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集(CD-ROM)
巻： 126th  ページ： ROMBUNNO.1E10  発行年： 2020年09月09日 
JST資料番号： S0874B  ISSN： 2758-3503  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電場印加反応場における低温での三元触媒反応(以下,電場TWC反応)について検討した.本検討では0.5wt%Pd/Ce_0.7Zr_0.3O₂(以下Pd/CZO)を用いて,電場印加反応場における活性試験や各種キャラクタリゼーションを行った.その結果,触媒層に電場を印加することにより,従来の熱駆動の触媒反応では活性を示さない低温領域で,N₂選択性の高いNO還元反応が進行することを見出した.また電場を印加することで,触媒担体の格子酸素の放出が促進されることを確認した.(著者抄録)

シソーラス用語： *一酸化窒素 ,  *接触還元 ,  *電場効果 ,  反応場 ,  低温 ,  三元触媒 ,  *パラジウム触媒 ,  担持触媒 ,  触媒担体 ,  ジルコニウム酸塩 ,  セリウム化合物 ,  選択性 ,  窒素 ,  触媒活性 ,  酸素 ,  格子欠陥 ,  酸素発生 ,  排ガス処理 ,  *自動車排出ガス ,  反応機構 ,  原位置試験 ,  赤外スペクトル ,  過渡応答 ,  二酸化炭素 ,  酸素16 ,  酸素18 ,  一酸化炭素 ,  部分酸化 ,  アルケン
準シソーラス用語： in situ試験 ,  ジルコニウム酸セリウム ,  過渡応答特性 ,  格子酸素 ,  酸素放出 ,  自動車排ガス ,  電圧印加

著者キーワード (3件)： 三元触媒反応 ,  電場印加反応場 ,  格子酸素

分類 (2件)： 排ガス処理  (PB02060U) ,  貴金属触媒  (CB06122I)

物質索引 (1件)： プロピレン

タイトルに関連する用語 (4件)： 電場印加 ,  反応場 ,  低温 ,  三元触媒