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J-GLOBAL ID：202202223108368320   整理番号：22A2505394

電荷移動錯体でのメカノストレス・センシング機能向上に向けた材料設計

著者 (9件)： 土戸優志 (早稲田大 大学院) ,  伊藤成輝 (早稲田大 大学院) ,  山中凌大 (早稲田大 大学院) ,  中島英和 (早稲田大 大学院) ,  飯谷健太 (早稲田大 大学院) ,  飯谷健太 (東医歯大 生材研) ,  今任景一 (早稲田大 大学院) ,  今任景一 (広島大 大学院) ,  武田直也 (早稲田大 大学院)
資料名： 日本分析化学会年会講演要旨集(Web)  (日本分析化学会年会講演要旨(Web))
巻： 70th  ページ： ROMBUNNO.B2001 (WEB ONLY)  発行年： 2021年09月08日 
JST資料番号： U2154A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電荷移動錯体 ,  *ストレス ,  *応力 ,  材料設計 ,  *ポリウレタン ,  *ドナー-アクセプタ対 ,  芳香族縮合炭化水素 ,  酸イミド ,  芳香族縮合化合物 ,  末端基 ,  ポリテトラメチレンオキシド ,  蛍光スペクトル ,  放射強度 ,  *プローブ ,  イソシアン酸塩 ,  ポリカプロラクトン ,  錯体生成 ,  機械刺激 ,  *重付加 ,  *ナフタレンジイミド類 ,  *ピレン類 ,  発光強度 ,  *機械的ストレス ,  窒素複素環化合物
準シソーラス用語： *メカニカルストレス ,  *メカノプローブ

分類 (4件)： 重付加  (CG04040O) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  分析機器  (CC02020S)

物質索引 (4件)： MDI ,  ピリジン ,  6-(2-{2-[2-(2-{4-[4-({7-[2-(2-ヒドロキシエトキシ)エトキシ]ピレン-2-イル}オキシ)ブチル]-1,2,3-トリアゾール-1-イル}エトキシ)エトキシ]エトキシ}エチル)-13-[2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチル]-6,13-ジアザテトラシクロ[6.6.2.0^4,16.0^11,15]ヘキサデカ-1,3,8(16),9,11(15)-ペンタエン-5,7,12,14-テトラオン ,  2,7-ビス[4-[1-[2-[2-[2-[2-[1,3,6,8-テトラオキソ-7-[2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチル]-3,6,7,8-テトラヒドロベンゾ[lmn][3,8]フェナントロリン-2(1H)-イル]エトキシ]エトキシ]エトキシ]エチル]-1H-1,2,3-トリアゾール-4-イル]ブトキシ]ピレン

タイトルに関連する用語 (2件)： 電荷移動錯体 ,  材料設計