文献

J-GLOBAL ID：202402286036689264   整理番号：24A1345595

ベリー位相フォトマスクによる一括光配向パターニング

One-Step Photoalignment Patterning using Berry-phase Photomask

著者 (3件)： 戸倉元輝 (大阪大 大学院) ,  仲嶋一真 (大阪大 大学院) ,  尾崎雅則 (大阪大 大学院)
資料名： 日本液晶学会討論会講演予稿集(CD-ROM)  (日本液晶学会オンライン研究発表会講演予稿集(CD-ROM))
巻： 2023  ページ： 245-246  発行年： 2023年09月04日 
JST資料番号： L3567B  ISSN： 1880-3490  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

本文一部表示： 液晶(LC)ダイレクタの空間分布を制御する技術である光配向パターニングは,L...【JST機械翻訳】【本文一部表示】

シソーラス用語： 液晶 ,  偏光 ,  レンズ ,  波長 ,  露光 ,  偏光顕微鏡 ,  レーザビーム ,  単量体 ,  円偏光 ,  直線偏光 ,  光学素子 ,  *パターン形成 ,  *Berry位相 ,  スピンコーティング ,  配向ベクトル

分類 (1件)： ネマチック相  (BK03020W)

タイトルに関連する用語 (4件)： ベリー位相 ,  フォトマスク ,  光配向 ,  パターニング