ヘリコン波励起高密度プラズマスパッタリングを用いたCN薄膜の合成

文献

J-GLOBAL ID：200902122439140178 整理番号：98A0689149

Synthesis of Carbon Nitride Films by High-Density Plasma Sputtering with Helicon-Wave Excitetion.

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巻： 24 号： 4 ページ： 181 発行年： 1998年07月
JST資料番号： F0907B ISSN： 0387-1096 資料種別：逐次刊行物 (A)
発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

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