特許
J-GLOBAL ID:200903077641878691
層状珪酸塩を前駆体とする新規高シリカナノ多孔体、その設計方法と製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
須藤 政彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-313664
公開番号(公開出願番号):特開2007-161571
出願日: 2006年11月20日
公開日(公表日): 2007年06月28日
要約:
【課題】OSDAの設計に依存することなく、有機物や酸を用いて構造制御することによる、高シリカゼオライト又は高シリカナノ多孔体の製造方法及びその製品を提供する。【解決手段】層状珪酸塩を用い、その骨格構造を保持したまま、隣り合うシリカシートを規則的に並べる、寄せる、繋げるの三つの要素を組み合わせ操作し、層間に新たな微細孔を形成させることで、合成される高シリカナノ多孔体の構造設計を行う高シリカナノ多孔体の構造設計方法であって、その層間への低有機分子の挿入、水素結合を伴ったシリカシートの規則的配列化と層間距離の収縮、脱水重縮合反応によるシリカシートの架橋、の3つのプロセスによって、層間部分にナノメートルサイズの細孔を形成させることで、高シリカナノ多孔体の構造設計を行う方法、該方法に基づいて、高シリカゼオライト又は高シリカナノ多孔体を製造する方法、及び得られた製品。【選択図】図21
請求項(抜粋):
層状珪酸塩を用い、その骨格構造を保持したまま、隣り合うシリカシートを規則的に並べる、寄せる、繋げるの三つの要素を組み合わせ操作し、層間に新たな微細孔を形成させることで、合成される高シリカナノ多孔体の構造設計を行う高シリカナノ多孔体の構造設計方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
4G073BB03
, 4G073BB48
, 4G073CA06
, 4G073CZ41
, 4G073CZ54
, 4G073FB19
, 4G073FB48
, 4G073FC19
, 4G073FD08
, 4G073FD23
, 4G073GA03
, 4G073GA13
, 4G073GA19
, 4G073GB02
, 4G073GB05
, 4G073UA01
, 4G073UA06
, 4G073UA09
, 4G073UB39
引用特許:
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
引用文献:
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