特許
J-GLOBAL ID:201203028199677821

光水分解用電極、光水分解用電極の製造方法、および、水分解方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 星野 哲郎 ,  山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-190912
公開番号(公開出願番号):特開2012-046385
出願日: 2010年08月27日
公開日(公表日): 2012年03月08日
要約:
【課題】希少金属であるインジウムを含まないp型光半導体とn型光半導体との好適な組み合わせを見出し、これらを組み合わせることで、高性能の光水分解用電極を提供する。【解決手段】集電極(10)上に、p型半導体(20)、n型半導体(30)、反応助触媒(40)の順に積層された光水分解用電極において、p型半導体(20)を、Cu、Ga及びカルコゲン元素からなる化合物とし、これらの元素の含有比を、Ga/Cu=1+2v、(カルコゲン元素)/Cu=2+3v、(vは、0.5≦v≦2である。)とし、かつn型半導体(30)を、ZnSとする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
集電極上に、p型半導体、n型半導体、反応助触媒の順に積層された光水分解用電極であって、 前記p型半導体が、Cu、Ga及びカルコゲン元素からなる化合物であり、これら構成元素の含有比が下記式を満たし、 Ga/Cu=1+2v(1) (カルコゲン元素)/Cu=2+3v(2) (vは、0.5≦v≦2である。) かつ前記n型半導体がZnSである、光水分解用電極。
IPC (2件):
C01B 3/04 ,  H01L 31/04
FI (2件):
C01B3/04 A ,  H01L31/04 Z
Fターム (11件):
5F151AA09 ,  5F151AA10 ,  5F151DA03 ,  5F151DA07 ,  5F151FA14 ,  5F151FA30 ,  5F151HA20 ,  5F151JA30 ,  5H027AA02 ,  5H027BA11 ,  5H027DD05
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 半導体粒子及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2007-036287   出願人:国立大学法人宇都宮大学
  • 特開昭62-068547
  • 太陽電池
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2008-252726   出願人:富士フイルム株式会社
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