非対称トンネル障壁を通して結合したSi量子ドット素子における伸長Coulombブロッケード領域の特性

LEE Sejoon; LEE Youngmin; SONG Emil B.; HIRAMOTO Toshiro

文献

J-GLOBAL ID：201302286817438437 整理番号：13A1769475

非対称トンネル障壁を通して結合したSi量子ドット素子における伸長Coulombブロッケード領域の特性

The characteristic of elongated Coulomb-blockade regions in a Si quantum-dot device coupled via asymmetric tunnel barriers

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巻： 114 号： 16 ページ： 164513-164513-7 発行年： 2013年10月28日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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