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J-GLOBAL ID：201502203880218598   整理番号：15A1185394

ミストCVD法を用いた成膜装置の作製と評価

著者 (2件)： 仲林裕司 (北陸先端科学技術大学院大 ナノマテリアルテクノロジーセ) ,  中本剛 (愛媛大 教育)
資料名： 北海道大学総合技術研究会報告集 平成26年度(CD-ROM)
ページ： ROMBUNNO.P01-17A  発行年： 2014年 
JST資料番号： N20151371  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  ミスト ,  微粒子 ,  振動子 ,  超音波 ,  *薄膜成長 ,  *酸化亜鉛 ,  *薄膜 ,  *装置 ,  *製造 ,  加熱器 ,  加熱温度 ,  膜厚 ,  透過率 ,  配向 ,  蛍光スペクトル ,  *光学的性質 ,  X線回折 ,  多結晶
準シソーラス用語： *ミストCVD ,  *作製 ,  *酸化物薄膜 ,  超音波振動子 ,  配向性

分類 (4件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  実験操作・装置(化学一般)  (CA02000Q)

タイトルに関連する用語 (4件)： ミストCVD法 ,  成膜装置 ,  作製 ,  評価