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J-GLOBAL ID：202302230546725391   整理番号：23A0793592

直流電場を印加させた三元触媒の低温域におけるNO_x還元反応のメカニズム解明

著者 (5件)： 成田優希 (早稲田大) ,  重本彩香 (早稲田大) ,  比護拓馬 (早稲田大) ,  植西徹 (トヨタ自動車) ,  関根泰 (早稲田大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集(CD-ROM)
巻： 130th  ページ： ROMBUNNO.2D01  発行年： 2022年09月13日 
JST資料番号： S0874B  ISSN： 2758-3503  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 自動車排ガスの低温化に伴い,三元触媒の低温域での活性向上が求められている.これまでの検討で,Pd/Ce_0.7Zr_0.3O₂への直流電場印加により,低温域(<473K)のNO還元活性が著しく向上することが分かった.本研究では電場印加時のNO還元反応メカニズム解明のため,NO,C₃H₆濃度変化試験,in-situ DRIFTS測定を行った.その結果,電場印加によりCe_0.7Zr_0.3O₂の表面格子酸素によるC₃H₆酸化が低温で促進されるため,NO還元反応が進行することが分かった.(著者抄録)

シソーラス用語： *三元触媒 ,  *電場 ,  *一酸化窒素 ,  *還元 ,  *排ガス処理 ,  *触媒活性 ,  濃度依存性 ,  吸着 ,  DRIFT法 ,  反応機構 ,  触媒反応 ,  低温 ,  酸化セリウム ,  酸化ジルコニウム ,  パラジウム触媒 ,  自動車排出ガス ,  アルケン
準シソーラス用語： *直流電場 ,  表面吸着

著者キーワード (4件)： 直流電場 ,  三元触媒 ,  NOx還元反応 ,  C3H6部分酸化種

分類 (2件)： 貴金属触媒  (CB06122I) ,  排ガス処理  (PB02060U)

物質索引 (1件)： プロピレン

タイトルに関連する用語 (6件)： 直流電場 ,  印加 ,  三元触媒 ,  低温域 ,  NOx還元反応 ,  メカニズム