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J-GLOBAL ID：201402229682499728   整理番号：14A0161057

エピタキシャルSmCo₅合金薄膜の作製とCoサイトのNi原子による置換

Preparation of SmCo₅ Alloy Epitaxial Thin Films and Replacement of Co Site with Ni Atom

著者 (8件)： 柳川貴人 (中央大 理工) ,  大竹充 (中央大 理工) ,  山田真 (中央大 理工) ,  堀田裕介 (中央大 理工) ,  鈴木中 (中央大 理工) ,  二本正昭 (中央大 理工) ,  桐野文良 (東京藝術大 大学院美術研究科) ,  稲葉信幸 (山形大)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 113  号： 345(MR2013 26-34)  ページ： 21-26  発行年： 2013年12月05日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： SmCo_5-xNi_x(x=0,1,4,5)合金薄膜を100から500°Cの基板温度でbcc-Cr(100)およびfcc-Cu(111)下地層上に形成し,膜成長過程と構造特性を反射高速電子回折およびX線回折により調べた。いずれの下地層上においても,Ni/Co組成および基板温度の増加に伴い,RT₅型規則構造(R:希土類金属,T:遷移金属)を持つエピタキシャル結晶の形成が促進された。Cr下地層上にエピタキシャル成長した膜は,c軸が面内に存在し,それらが互いに直交したRT₅(11<span style=text-decoration:overline>2</span>0)双結晶から,Cu下地層上に成長した膜は,c軸が面直に向いたRT₅(0001)双結晶から構成された。Ni/Co組成および基板温度の増加に伴い,長距離規則度が増加した。基板温度500°CでCr下地層上に形成したSmCo₅,SmCo₄Ni,SmCoNi₄,SmNi₅膜の規則度は,それぞれ,0.60,0.68,0.83,0.89であり,Cu下地層上では,0.77,0.82,0.89,0.97であった。RT₅型構造のCoサイトをNi原子で置換することにより,規則相形成が促進されることが明らかになった。(著者抄録)

シソーラス用語： 金属薄膜 ,  磁性薄膜 ,  エピタクシー ,  永久磁石 ,  長範囲規則度 ,  *サマリウム合金 ,  *コバルト合金 ,  *ニッケル合金 ,  *過程 ,  遷移金属 ,  *記憶媒体 ,  *薄膜プロセス
準シソーラス用語： エピタキシャル成長 ,  希土類磁石 ,  *磁気記録媒体 ,  長距離規則度 ,  *薄膜過程

分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  磁性材料  (NA04040H)

タイトルに関連する用語 (7件)： エピタキシャル ,  合金薄膜 ,  作製 ,  CO ,  Ni ,  原子 ,  置換