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J-GLOBAL ID：201702252571621925   整理番号：17A0139770

L1₀-FePt薄膜の表面形態と結晶性に及ぼす下地層の影響

Influence of Underlayer Material on the Surface and the Crystallographic Qualities of L1₀-FePt Alloy Thin Film

著者 (8件)： 清水智貴 (中央大 理工) ,  中村将大 (中央大 理工) ,  落合亮真 (中央大 理工) ,  大竹充 (中央大 理工) ,  大竹充 (工学院大 工) ,  二本正昭 (中央大 理工) ,  桐野文良 (東京藝術大 大学院美術研究科) ,  稲葉信幸 (山形大 工)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 116  号： 348(MR2016 30-40)  ページ： 63-67  発行年： 2016年12月01日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： L1₀構造を持つFePt薄膜を高密度記録媒体などのデバイスに応用するためには,膜表面平坦性を制御する必要がある。しかしながら高基板温度で製膜を行った場合,表面起伏の大きな膜が形成されてしまう。膜の平坦性には表面エネルギーが関係しているため,平坦膜を形成するために下地層として表面エネルギーの大きな材料を用いることが有効である。本研究では,SrTiO₃(001)単結晶基板上に類似の結晶構造と格子定数を持つMgO,VC,VNを2nm厚の下地層として形成し,その上に10nm厚のFePt膜を600°Cの基板温度で形成した。そして,下地層材料がFePt膜の構造に与える影響について調べた。その結果表面エネルギーの大きいこれらの下地層はSrTiO₃基板結晶上でエピタキシャル成長し,その上に形成したFePt膜はL1₀(001),(100),(010)の3種類のバリアントから成るエピタキシャル膜として成長した。FePt膜の表面起伏(R_a)は4.5nm(MgO)>1.3nm(VC)>0.3nm(VN)となり,MgOよりも表面エネルギーが大きなVCおよびVN下地層を用いることによって,表面平坦性に優れたFePt膜が得られることが明らかになった。(著者抄録)

シソーラス用語： *金属薄膜 ,  磁性合金 ,  鉄合金 ,  白金含有合金 ,  モルフォロジー ,  表面構造 ,  結晶度 ,  下層 ,  *磁気記録 ,  *エピタクシー ,  構造 ,  *記録

分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄膜 ,  表面形態 ,  結晶性 ,  下地層