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J-GLOBAL ID：200902165051348789   Reference number：99A0595455

FeSi薄膜の成膜と評価

Author (5)： ONODA MASAKAZU (東海大 工) ,  IWASE MITSUO (東海大 工) ,  ICHINOHE TAKAHISA (東京工高専) ,  MASAKI SUSUMU (東京工高専) ,  MORISAKI HIROSHI (電通大)
Material： 電気化学会大会講演要旨集
Volume： 66th  Page： 217  Publication year： Mar. 24, 1999 
JST Material Number： Y0048A  Document type： Proceedings
Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Terms in the title (2)： 成膜 ,  評価