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J-GLOBAL ID：200901088960178800   Update date: Sep. 27, 2022

Sugawara Katsuro

スガワラ カツロウ | Sugawara Katsuro
Affiliation and department：
Nihon University College of Engineering, Department of Computer Science

About Nihon University College of Engineering, Department of Computer Science


Homepage URL  (1)： http://cs.ce.nihon-u.ac.jp/~sugawara/
Research field  (4)： Chemical reaction and process system engineering ,  Electric/electronic material engineering ,  Crystal engineering ,  Applied materials
Research keywords  (6)： 単結晶成長技術 ,  薄膜技術 ,  VLSIプロセス工学 ,  Technology of Single Crystal Growth ,  Thin Film Technology ,  VLSI Process Engineering
Research theme for competitive and other funds  (6)：
  • 光通信システム用半導体光導波路のシミュレーション
  • Si単結晶成長時の酸素およびド-パント分布シミュレーション
  • VLSI用薄膜形成シミュレーション
  • Simulation of Semiconductor Waveguide in Application to Communication Systems.
  • Simulation of the Radial Oxygen and Dopant Distribution in Si Single Crystal.
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MISC (163)：
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Books (25)：
  • 電気化学便覧(改訂5版)
    17・1シリコンと半導体デバイス(丸善) 2000
  • 化学工学便覧(改訂6版)21 薄膜・微粒子生成反応 21・1薄膜・気相の実例 21・1・2気相薄膜合成装置と反応条件(共著)
    丸善 1999
  • Si ULSI用薄膜の最新トピックスと反応器シミュレーションのためのWSix反応機構解析
    化学工学会CVD工学基礎プロジェクト(III)研究会初年度報告書 1997
  • Reaction Chemistry of InGaAsP MOCVD Studied with FT-IR Gas Monitoring and Numerical Analysis on Growth Kinetics.
    "Chemical Vapor Deposition-Proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11 1997
  • Finite Element Analysis of the Radadial Phosphorus Dopant Distribution in Si Czochralski-grown Single Crystals.
    Proceedings of the Symposium on "Crystalline Defects and Contamination : Their Impact and Control in Device Manufacturing II" 1997
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Works (44)：
  • 化学工学会CVD特別研究会2年度報告書.「ULSI用薄膜を中心とした評価技術」シンポジウムを計画して-化学工学会CVD特別研究会・ECS日本支部ミニシンポジウム「ULSI用薄膜を中心とした評価技術」-(共著)
    1999 -
  • 化学工学会CVD工学基礎プロジェクト(III)研究会初年度報告書 Si ULSI用薄膜の最新トピックスと反応器シミュレーションのためのWSix反応機構解析
    1997 -
  • Advanced Topics on Si ULSI Thin Film and WSix Reaction Mechanism Analysis Used for CVD Reactor Simulation. (訳)
    1997 -
  • 化学工学会CVD特別研究会3年度報告書 化学工学会第28回秋季大会シンポジウムでの発表内容
    1996 -
  • 化学工学会CVD特別研究会3年度報告書:薄膜生成のシミュレーション-計算物理・計算化学を用いたシミュレーションのULSIへの応用-
    1996 -
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Education (2)：
  • - 1957 The University of Tokyo Faculty of Science Department of Chemistry
  • - 1957 The University of Tokyo Faculty of Science
Professional career (1)：
  • Doctor of Science (The University of Tokyo)
Work history (10)：
  • 1993 - 2001 Nihon University Department of Computer Science, College of Engineering
  • 1993 - 2001 Nihon University, College of Engineering, Professor
  • 1989 - 1992 日立超LSIエンジニアリング株式会社取締役・技師長
  • 1989 - 1992 Hitachi ULSI Engineering, Corp., Board Director & Senior Chief Engineer
  • 1982 - 1988 Hitachi, Ltd.,
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Committee career (2)：
  • 1995 - 1996 米国ECS(ELECTROCHEMICAL SOCIETY) ECS日本支部支部長
  • 応用物理学会 東北支部評議員
Awards (3)：
  • 1989 - 東京都科学技術功労者表彰
  • 1983 - 発明協会関東地方発明表彰発明奬励賞
  • 1977 - 発明協会関東地方発明表彰発明奨励賞
Association Membership(s) (6)：
情報処理学会 ,  米国ECS(ELECTROCHEMICAL SOCIETY) ,  化学工学会 ,  電子情報通信学会 ,  日本化学会 ,  応用物理学会
※ Researcher’s information displayed in J-GLOBAL is based on the information registered in researchmap. For details, see here.

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