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J-GLOBAL ID：200902066178363657   Reference number：91A0420579

Formation of an SiO₂ film by thermal CVD of TEOS.The effect of additives.

TEOSの熱CVDによるSiO₂の成膜 添加物効果

Author (5)： SHIGA SATOSHI (東大 工) ,  IKUTA KAZUYUKI (東大 工) ,  ETO YASUYUKI (東大 工) ,  KOMIYAMA HIROSHI (東大 工) ,  HANDA SATOSHI (三菱電機 生産技研)
Material： 化学工学会年会研究発表講演要旨集
Volume： 56th  Page： 478  Publication year： Mar. 1991 
JST Material Number： X0547A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： chemical vapor deposition ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Unit process  (XE01040I)

Terms in the title (5)： TEOS ,  熱CVD ,  SiO2 ,  成膜 ,  添加物効果