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J-GLOBAL ID：201702240207134251   Reference number：17A0002438

Surface orientation dependence of plasma-induced ion bombardment damage in Si substrate

Si基板のプラズマ誘起イオン照射の表面配向依存性

Author (3)： OKADA Yukimasa (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  ERIGUCHI Koji (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  ONO Kouichi (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Proceedings of International Symposium on Dry Process  (Proc Int Symp Dry Process)
Volume： 37th  Page： 211-212  Publication year： 2015 
JST Material Number： Y0378B  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： orientation(direction) ,  surface ,  dependence ,  *ion irradiation ,  fluid flow ,  wafer

JST classification (1)： Interactions with ions  (BK16070Z)

Terms in the title (6)： Si基板 ,  プラズマ ,  誘起 ,  イオン照射 ,  表面配向 ,  依存性