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J-GLOBAL ID：201702241518276812   Reference number：17A0190543

Selective production of H₂O₂ and NO₂^- in cell culture medium exposed to nonthermal plasma jet

プラズマ照射培地溶液中H₂O₂,NO₂^-の選択的生成

Author (5)： UCHIDA Giichiro (Osaka Univ., Ibaraki, JPN) ,  ITO Taiki (Osaka Univ., Ibaraki, JPN) ,  TAKENAKA Kosuke (Osaka Univ., Ibaraki, JPN) ,  IKEDA Junichiro (Osaka Univ., Suita, JPN) ,  SETSUHARA Yuichi (Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
Material： プラズマプロセシング研究会プロシーディングス(CD-ROM)  (プラズマプロセシング研究会(CD-ROM))
Volume： 34th  Page： ROMBUNNO.P1-12  Publication year： Jan. 16, 2017 
JST Material Number： L4449B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma treatment ,  plasma exposure ,  medium(culture) ,  solution(liquid) ,  *hydrogen peroxide ,  *nitrogen dioxide ,  *plasma jet ,  radiofrequency discharge ,  oxygen ,  nitrogen ,  frequency dependence ,  selectivity ,  active oxygen
Semi thesaurus term： atmospheric pressure plasma ,  active nitrogen

JST classification (1)： Gas chemical industry  (YB02070O)

Terms in the title (4)： プラズマ照射 ,  培地 ,  溶液 ,  H2O2