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J-GLOBAL ID：201702256269739529   Reference number：17A0229879

High Crystallization of Ultra-Thin Indium Tin Oxide Films Prepared by Direct Current Magnetron Sputtering with Post-Annealing

直流マグネトロンスパッタリング法により形成した超薄酸化インジウムスズ膜のポストアニーリングによる高結晶化

Author (2)： KIM Min-Je (Pusan National Univ., Busan, KOR) ,  SONG Pung-Keun (Pusan National Univ., Busan, KOR)
Material： Science of Advanced Materials  (Sci Adv Mater)
Volume： 8  Issue： 3  Page： 622-626  Publication year： Mar. 2016 
JST Material Number： W2374A  ISSN： 1947-2935  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *magnetron sputtering ,  *ultrathin film ,  *indium tin oxide ,  *annealing(heat treatment) ,  *crystallization ,  sintering ,  target ,  Hall effect ,  electrical property ,  spectrophotometer ,  optical property ,  transmission electron microscope ,  micro structure ,  Hall mobility ,  electrical resistivity ,  surface roughness ,  transmissivity
Semi thesaurus term： *DC magnetron sputtering ,  *post annealing ,  reactive magnetron sputtering ,  electrical property ,  ultraviolet visible spectrophotometer ,  optical characteristics ,  light transmittance

JST classification (4)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I) ,  Electric conduction in other inorganic compounds  (BM03044O) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A)

Terms in the title (4)： 直流マグネトロンスパッタリング ,  酸化インジウムスズ ,  ポストアニーリング ,  高結晶