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J-GLOBAL ID：201702241145705957   Reference number：17A0190531

Plasma surface process of cubic boron nitride studied by using microscopic single crystals

微小結晶を利用した立方晶窒化ホウ素のプラズマ表面化学プロセスの研究

Author (5)： TAMURA Takahiro (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  TAKAMI Takuya (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  YANASE Takashi (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  NAGAHAMA Taro (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN) ,  SHIMADA Toshihiro (Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
Material： プラズマプロセシング研究会プロシーディングス(CD-ROM)  (プラズマプロセシング研究会(CD-ROM))
Volume： 34th  Page： ROMBUNNO.18pB5  Publication year： Jan. 16, 2017 
JST Material Number： L4449B  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasma CVD ,  plasma chemical reaction ,  *surface reaction ,  ceramics ,  *boron nitride ,  *chemical process ,  cubic system ,  microcrystal ,  *plasma etching
Semi thesaurus term： CBN

JST classification (2)： Crystal growth of semiconductors  (BK13040X) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (6)： 微小結晶 ,  立方晶窒化ホウ素 ,  プラズマ ,  表面化学 ,  プロセス ,  研究