研究者
J-GLOBAL ID:200901016006169882   更新日: 2024年03月31日

山中 淳二

ヤマナカ ジュンジ | Junji Yamanaka
所属機関・部署:
職名: 准教授
研究分野 (5件): その他 ,  構造材料、機能材料 ,  金属材料物性 ,  電気電子材料工学 ,  結晶工学
研究キーワード (5件): 無機材料 ,  相変態 ,  透過電子顕微鏡 ,  微細組織 ,  半導体ヘテロ構造
競争的資金等の研究課題 (11件):
  • 2023 - 2026 構造敏感性をもつ半導体薄膜の歪分布マルチスケール可視化新手法の開発
  • 2021 - 2024 (110)面を表面に有する歪みシリコン薄膜の酸化膜/半導体界面準位に関する研究
  • 2018 - 2021 イオン注入法による歪みSi/SiGe/Si(110)構造の欠陥と表面形状の制御
  • 2015 - 2018 転位形成の抑制による歪みSi/SiGe/Si(110)ヘテロ構造の超高移動度化
  • 2013 - 2016 水素ラジカルを用いた高品位Ge/Si基板ヘテロ構造形成技術の開発
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論文 (124件):
  • Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto, Takuma Ampo, Yasushi Takahashi. Elemental and Crystallographic Analysis of Trapiche Ruby using Micro X-ray Fluorescence Spectroscopy, X-ray Pole Figure Map, and Low Vacuum Type Field Emission Scanning Electron Microscopy. Microscopy and Microanalysys. 2023. 29. S1. 2011-2013
  • Junji Yamanaka, Joji Furuya, Kosuke O Hara, Keisuke Arimoto. Evaluation of Lattice-Spacing of SiGe/Si by NBD using Two Condenser-lens TEM, Experimental Study about the Effect of Convergence Angle. Microscopy and Microanalysys. 2023. 29. S1. 325-327
  • Taisuke Fujisawa, Atsushi Onogawa, Miki Horiuchi, Yuichi Sano, Chihiro Sakata, Junji Yamanaka, Kosuke O. Hara, Kentarou Sawano, Kiyokazu Nakagawa, Keisuke Arimoto. Influences of lattice strain and SiGe buffer layer thickness on electrical characteristics of strained Si/SiGe/Si(110) heterostructures. Materials Science in Semiconductor Processing. 2023. 161. 107476-107476
  • Keisuke Arimoto, Chihiro Sakata, Kosuke O. Hara, Junji Yamanaka. Crystalline Morphology of SiGe Films Grown on Si(110) Substrates. Journal of Electronic Materials. 2023. 52. 5121-5127
  • Kosuke O. Hara, Chiaya Yamamoto, Junji Yamanaka, Keisuke Arimoto. Semiconducting BaSi2 film synthesis by close-spaced evaporation benefiting from mechanical activation of source powder by ball milling. JJAP Conference Proceedings. 2023. 10. 011101-1-011101-5
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MISC (29件):
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講演・口頭発表等 (116件):
  • SiGe / Ge / Si (111)に発生するクラックの方位
    (日本金属学会2024年春期(第174回)講演大会 2024)
  • Feasibility study for the evaluation of SiGe/Si (110) domain tilt using X-ray diffraction reciprocal space mapping and conventional HR-TEM method.
    (The 20th International Microscopy Congress 2023)
  • Elemental and Crystallographic Analysis of Trapiche Ruby using Micro X-ray Fluorescence Spectroscopy, X-ray Pole Figure Map, and Low Vacuum Type Field Emission Scanning Electron Microscopy
    (Microscopy & Microanalysis 2023 2023)
  • Evaluation of Lattice-Spacing of SiGe/Si by NBD using Two Condenser-lens TEM, Experimental Study about the Effect of Convergence Angle
    (Microscopy & Microanalysis 2023 2023)
  • 近接蒸着法により作製したCaSi2薄膜の結晶配向性
    (2023年第70回応用物理学会春季学術講演会 2023)
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学歴 (3件):
  • - 1994 東京工業大学
  • - 1990 名古屋工業大学
  • - 1988 名古屋工業大学
学位 (2件):
  • 工学修士 (名古屋工業大学)
  • 博士(工学) (東京工業大学)
経歴 (3件):
  • 2006/05 - 現在 山梨大学 助教授 大学院医学工学総合研究部(2007年4月より職名変更により准教授)
  • 1997/04 - 現在 山梨大学工学部附属無機合成研究施設(2002.4からクリスタル科学研究センター)助手
  • 1994/04 - 現在 株式会社日産アーク研究部研究員
委員歴 (22件):
  • 2017/04 - 現在 大学連携研究設備ネットワーク 委員代理
  • 2017/04 - 現在 大学連携研究設備ネットワーク 西関東・甲斐地域委員
  • 2021/04 - 2022/03 国立大学法人機器・分析センター協議会 会員
  • 2021/04 - 2022/03 大学連携研究設備ネットワーク 委員代理
  • 2020/04 - 2021/03 大学連携研究設備ネットワーク 委員代理
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受賞 (3件):
  • 2013/07 - International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP) 2013 ISSP 2013 Best Poster Award In situ formation of aluminum germanate interlayer for high-k/Ge metal-oxide-semiconductor structure by atomic layer deposition with trimethylaluminum and microwave-generated atomic oxygen
  • 2013/05 - 日本顕微鏡学会 日本顕微鏡学会第69回学術講演会優秀ポスター賞[材料系] 選択エッチングとFE-SEM を活用したFe-Al-Ni合金中B2 析出物の形態観察
  • 2001/03 - 公益財団法人風戸研究奨励会 風戸研究奨励金 難黒鉛化性フラン樹脂炭素の表面黒鉛化
所属学会 (5件):
Microscopy Society of America ,  応用物理学会 ,  日本顕微鏡学会 ,  日本金属学会 ,  日本セラミックス協会
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