研究者
J-GLOBAL ID:200901019988137112
更新日: 2022年07月16日
加藤 清彦
カトウ キヨヒコ | Kato Kiyohiko
所属機関・部署:
旧所属 北見工業大学 工学部 機能材料工学科
旧所属 北見工業大学 工学部 機能材料工学科 について
「旧所属 北見工業大学 工学部 機能材料工学科」ですべてを検索
職名:
研究員
研究分野 (1件):
電気電子材料工学
研究キーワード (6件):
スパッタリング
, 電子材料
, 薄膜材料
, Sputtering
, Electronic material
, Thin film material
競争的資金等の研究課題 (2件):
2004 - 2007 Development of new platinum fellows thin film material and platinum fellows oxide thin film material
新規白金族薄膜材料及び、白金族酸化物薄膜材料の開発
MISC (14件):
Myohiko Kato, Katsutaka Sasaki, Yoshio Abe. Effect of substrate temperature on epitaxial orientation of Rh thin films sputtered on A-plane sapphire. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2006. 45. 9A. 7097-7099
K. Kato, K. Sasaki, Y. Abe. Control of Epitaxial Growth Plane of Rh Thin Films on A-Plane Sapphire by Sputter Deposition. Japanese Journal of Applied Physics. 2006. 45. 4A. 2731-2735
K. Kato, K. Sasaki, Y. Abe. Control of Epitaxial Growth Plane of Rh Thin Films on A-Plane Sapphire by Sputter Deposition. Japanese Journal of Applied Physics. 2006. 45. 4A. 2731-2735
K. Kato, K. Sasaki, Y. Abe. Effect of Substrate Temperature on Epitaxial Orientation of Rh Thin Films Sputtered on A-Plane Sapphire. Japanese Journal of Applied Physics. 2006. 45. 9A. 7097-7099
K Kato, Y Abe, K Sasaki. Epitaxial growth of (001)Rh thin film on (001)MgO single-crystal substrate by sputtering. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS BRIEF COMMUNICATIONS & REVIEW PAPERS. 2005. 44. 10. 7605-7607
もっと見る
学歴 (6件):
- 2006 北見工業大学 工学研究科 物質工学専攻
- 2006 北見工業大学
- 2001 北見工業大学 工学研究科 機能材料工学
- 2001 北見工業大学
- 1999 北見工業大学 工学部 機能材料工学科
- 1999 北見工業大学
全件表示
学位 (2件):
修士(工学) (北見工業大学)
博士 (北見工業大学)
経歴 (6件):
2001 - 2004 真空機器・装置メーカーにて、真空計・膜厚計・
2001 - 2004 It was engaged in vacuum apparatus and an
成膜コントローラーの設計開発に従事。
thickness meter, and the deposition controller.
development of the vacuum gauge, the film
equipment maker. And it was engaged in design
全件表示
所属学会 (5件):
電子通信情報学会
, 応用物理学会
, Information and Communication engineers
, The Institute of Electronics
, The Japan Society of Applied Physics
※ J-GLOBALの研究者情報は、
researchmap
の登録情報に基づき表示しています。 登録・更新については、
こちら
をご覧ください。
前のページに戻る
TOP
BOTTOM