研究者
J-GLOBAL ID:200901022633988872
更新日: 2022年09月13日
中宮 俊幸
ナカミヤ トシユキ | Nakamiya Toshiyuki
所属機関・部署:
東海大学 産業工学部 電子知能システム工学科
東海大学 産業工学部 電子知能システム工学科 について
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職名:
教授
研究分野 (5件):
材料加工、組織制御
, 電気電子材料工学
, 安全工学
, 社会システム工学
, 情報学基礎論
研究キーワード (6件):
材料加工・処理
, 計算機科学
, 電子・電気材料工学
, Metallurgy and Material Processing
, Computer Science
, Electronic and Electric Materials Engineering
競争的資金等の研究課題 (4件):
2002 - 音響信号によるマイクロ放電の解析
2002 - ANALYSIS OF ACOUSTIC SIGNAL IN THE MICRO DISCHARGES
パルスレーザ光による電子材料加工のコンピュータシミュレーションに関する研究
Study on Computer Simulation of Electronic Materials Processing by a Pulsed Laser Irradiation
MISC (24件):
K Ebihara, T Nakamiya, T Ohshima, T Ikegami, S Aoqui. Influence of ambient gas on diamond-like carbon films prepared by KrF pulsed laser deposition. DIAMOND AND RELATED MATERIALS. 2001. 10. 3-7. 900-904
Experimental and numerical study on pulsed-laser annealing process of diamond-like carbon thin films(共著). Diamond and Related Materials. 2001. 10. 3/7. 905-909
T Nakamiya, T Ikegami, K Ebihara. The quadratic finite element thermal analysis of silicon irradiated by a pulsed KrF excimer laser. COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE. 2000. 17. 2-4. 409-413
有限要素法によるパルスレーザー光照射グラファイトの熱解析(共著). 電気学会論文誌A. 1999. 119-A. 7. 1045-1050
The Finite Element Thermal Analysis of Graphite Irradiated by a Pulsed Laser(共著). Trans. IEE of Japan. 1999. 119-A. 7. 1045-1050
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Works (4件):
レーザ・プラズマプロセス開発による先端材料・デバイスの創製
1998 - 2000
Smart Advanced Materials/Devices by Laser/Plasma Process
1998 - 2000
パルスアークプラズマ放電によるY系酸化物高温超伝導薄膜作製に関する研究
1992 - 1994
-
1992 - 1994
学歴 (6件):
- 2001 熊本大学 自然科学研究科 システム情報科学
- 2001 熊本大学
- 1977 熊本大学 工学研究科 電子工学専攻
- 1977 熊本大学
- 1975 千葉工業大学 工学部 電子工学科
- 1975 千葉工業大学
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学位 (2件):
工学修士 (熊本大学)
博士(工学) (熊本大学)
所属学会 (5件):
MATERIALS RESEARCH SOCIETY
, 日本シミュレーション学会
, 応用物理学会
, 電気学会
, 電子情報通信学会
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