研究者
J-GLOBAL ID:200901027294814675   更新日: 2022年07月07日

原市 聡

ハライチ サトシ | Haraichi Satoshi
所属機関・部署:
ホームページURL (1件): http://www.aist.go.jp/RESEARCHERDB/cgi-bin/worker_detail.cgi?call=namae&rw_id=S60469125
研究分野 (1件): 数理物理、物性基礎
研究キーワード (7件): 電子ビーム露光 磁性トンネル接合 単一電子輸送 シリコン 半導体表面 ,  harmonic-generation ,  chemisorption ,  photo-induced ,  silicon ,  reaction ,  semiconductor surface
競争的資金等の研究課題 (1件):
  • シリコン表面・界面およびナノ加工・ナノデバイス
MISC (20件):
学歴 (2件):
  • 京都大学
  • 京都大学
経歴 (4件):
  • 1992/04/01 - 現在 電子技術総合研究所
  • 1992/04/01 - 現在 Electrotechnical Lab.
  • 1983/04/01 - 1992/03/31 日立製作所
  • 1983/04/01 - 1992/03/31 Hitachi Ltd.
所属学会 (6件):
American Vacuum Society ,  電子情報通信学会 ,  日本磁気学会 ,  応用物理学会 ,  Applied Physics Society ,  American Vacuum Society
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