研究者
J-GLOBAL ID：200901041853829478   更新日: 2024年01月31日

清水 勝

シミズ マサル | Shimizu Masaru
所属機関・部署：
兵庫県立大学 大学院 工学研究科 物性デバイス工学部門

兵庫県立大学 大学院 工学研究科 物性デバイス工学部門 について


職名： 特任教授
ホームページURL (1件)： http://www.u-hyogo.ac.jp/eng
研究分野 (1件)： 電気電子材料工学
研究キーワード (7件)： 強誘電体 ,  電子物性 ,  誘電体 ,  薄膜 ,  Electronic Science ,  Dielectrics ,  Thin Film
競争的資金等の研究課題 (31件)：
  • 2013 - 2015 強誘電体ナノロッドを用いた超高集積強誘電体メモリ用キャパシタの作製
  • 2012 - 2014 ナノ強誘電体の自発分極とそのサイズ依存性
  • 2010 - 2012 強誘電体一次元ナノ構造の作製と機能創製
  • 2010 - 2011 組成・価数制御されたBiFeO_3薄膜の作製とリーク電流機構解明
  • 2005 - 2006 MOCVD法による強誘電体極薄膜及びナノ構造の作製とサイズ効果に関する研究
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論文 (121件)：
  • Seiji Nakashima, Tohru Higuchi, Akira Yasui, Toyohiko Kinoshita, Masaru Shimizu, Hironori Fujisawa. Enhancement of photovoltage by electronic structure evolution in multiferroic Mn-doped BiFeO3 thin films. Scientific Reports. 2020. 10. 1
  • Seiji Nakashima, Satoshi Kimura, Yuta Kurokawa, Hironori Fujisawa, Masaru Shimizu. Introduction of charged domain walls into BiFeO3 thin films using a pit-patterned SrTiO3 (001) substrate. Japanese Journal of Applied Physics. 2019. 58. SL
  • Nao Yoshimura, Hironori Fujisawa, Seiji Nakashima, Masaru Shimizu. Composition control and introduction of an Fe2O3 seed layer in metalorganic chemical vapor deposition of epitaxial BiFeO3 thin films. Japanese Journal of Applied Physics. 2019. 58. 4
  • Seiji Nakashima, Ryu Hayashimoto, Hironori Fujisawa, Masaru Shimizu. Bulk photovoltaic effects in Mn-doped BiFeO3 thin films and the optical strains. Japanese Journal of Applied Physics. 2018. 57. 11
  • Seiji Nakashima, Seiji Nakashima, Seiji Nakashima, Shota Seto, Yuta Kurokawa, Hironori Fujisawa, Hironori Fujisawa, Hironori Fujisawa, Masaru Shimizu, Masaru Shimizu. Domain structure of BiFeO3thin films grown on patterned SrTiO3(001) substrates. Japanese Journal of Applied Physics. 2017. 56. 10
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MISC (170件)：
  • 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝. 強誘電体薄膜のバルク光起電力効果を用いた高電圧発生とそれを用いた光駆動アクチュエータ. 岩谷直治記念財団研究報告書. 2019. 42
  • 竹内洋平, 兼松宏行, 小高雄哉, 福島宏昌, 藤沢浩訓, 中嶋誠二, 清水勝. ZnOナノワイヤ上でのHf1-xZrxO2薄膜の結晶化. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2018. 65th
  • 吉村奈緒, 田中拓人, 藤沢浩訓, 中嶋誠二, 清水勝. BiFeO3薄膜のMOCVD成長における成膜圧力の影響. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2018. 65th
  • 黒川悠太, 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝. (110)配向BiFeO3薄膜への帯電ドメインウォールの導入. 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2018. 65th
  • 林本竜, 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝. MnドープBiFeO3薄膜のバルク光起電力効果とそれによって発生する光誘起歪. 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM). 2018. 79th
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特許 (2件)：
書籍 (6件)：
  • 誘電体材料の特性と測定・評価及び応用技術
    技術情報協会 2001
  • 強誘電体薄膜メモリ
    サイエンスフォーラム社 1995
  • Growth and Characterization of Ferroelectric Thin Films by Photo-CVD Process
    New Functionally Materials 1993
  • セラミックデータブック '92
    工業技術製品協会 1992
  • 強誘電体薄膜集積化技術
    サイエンスフォーラム社 1992
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Works (2件)：
  • MOCVD法による高品質強誘電体薄膜の作製と物性評価
    2000 - 2004
  • Prearafirn and characterization of high quality ferroelectric thin films by MOCVD
    2000 - 2004
学歴 (4件)：
  • - 1982 京都大学 工学研究科 電子工学
  • - 1982 京都大学
  • - 1978 静岡大学 工学部 電気工学
  • - 1978 静岡大学
学位 (2件)：
  • 工学博士 (京都大学)
  • 工学修士 (静岡大学)
経歴 (6件)：
  • 2004 - - 兵庫県立大学 助教授
  • 1998 - - Himeji, Institute of Technology, Associate
  • 1982 - 1995 京都大学 助手
  • 1982 - 1995 Kyoto University, Research Associate
  • 1995 - - 姫路工業大学 助教授
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所属学会 (4件)：
日本誘電体学会 ,  材料研究会(MRS) ,  電気・電子工学学会(IEEE) ,  応用物理学会
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