研究者
J-GLOBAL ID:200901052869723132
更新日: 2020年04月28日
河 兌坪
ハ テホ | Ha Taeho
所属機関・部署:
旧所属 大阪大学 大学院工学研究科 (専攻)機械システム工学専攻
旧所属 大阪大学 大学院工学研究科 (専攻)機械システム工学専攻 について
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職名:
文部科学省教官
研究分野 (2件):
加工学、生産工学
, 光工学、光量子科学
研究キーワード (5件):
silicon wafer Defect Measurement
, Optical Measurement
, FIB加工
, シリコンウエハ加工欠陥計測
, 超精密光応用計測
競争的資金等の研究課題 (2件):
光散乱によるCMP加工表面薄膜欠陥計測に関する研究
Optical Measurement of CMP Film Surface Defects using Light Scattering
MISC (10件):
Laser Scattering Measurement of Microdefects on Silicon Oxide Wafer Surface. Key Engineering Materials. 2004
Laser Scattering Measurement of Microdefects on Silicon Oxide Wafer Surface. Key Engineering Materials. 2004
TH Ha, T Miyoshi, Y Takaya, S Takahashi. Size determination of microscratches on silicon oxide wafer surface using scattered light. PRECISION ENGINEERING-JOURNAL OF THE INTERNATIONAL SOCIETIES FOR PRECISION ENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY. 2003. 27. 3. 265-272
TH Ha, T Miyoshi, Y Takaya, S Takahashi. Size determination of microscratches on silicon oxide wafer surface using scattered light. PRECISION ENGINEERING-JOURNAL OF THE INTERNATIONAL SOCIETIES FOR PRECISION ENGINEERING AND NANOTECHNOLOGY. 2003. 27. 3. 265-272
Evaluation of microdefects on SiO
2
Filmed wafer surface from the Scattered light. Proceeding of Euspen Ceuropean Society for precision engineering and nanotechnology. 2002
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学歴 (6件):
- 2003 大阪大学 工学研究科 機会システム工学専攻
- 2003 大阪大学
- 2000 大阪大学 工学研究科 機械システム工学
- 2000 大阪大学
- 1995 国立釜山大学 工学部 精密機械工学
- 1995 Pusan national unviersity Faculty of Engineering Precision mechanical engineering
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学位 (2件):
工学修士 (大阪大学)
工学博士 (大阪大学)
所属学会 (2件):
精密工学会
, JSPE
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