シリコン酸化物ウエハ上の微小欠陥のレーザ散乱測定

文献

J-GLOBAL ID：200902235348356568 整理番号：05A0670895

Laser Scattering Measurement of Microdefects on Silicon Oxide Water

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資料名：
巻： 295/296 ページ： 3-8 発行年： 2005年
JST資料番号： D0744C ISSN： 1013-9826 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：スイス (CHE) 言語：英語 (EN)

シリコン酸化物ウエハに化学機械研磨で生じたサブミクロン級の粒...

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固体デバイス計測・試験・信頼性

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