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J-GLOBAL ID：200902000085897510   整理番号：84A0205324

ENDORにより研究したa-Si:Hの水素とダングリングボンドとの間の超微細相互作用

Hyperfine interaction between hydrogens and dangling bonds in a-Si:H studied by ENDOR.

著者 (4件)： Yamasaki s (Electrotechnical Lab., Ibaraki) ,  KURODA S (Electrotechnical Lab., Ibaraki) ,  TANAKA K (Electrotechnical Lab., Ibaraki) ,  HAYASHI S (National Chemical Lab. Industry, Ibaraki)
資料名： Solid State Communications  (Solid State Communications)
巻： 50  号： 1  ページ： 9-11  発行年： 1984年04月 
JST資料番号： H0499A  ISSN： 0038-1098  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 室温から600°Cの間で等時間アニーリング前後の試料のEND...

シソーラス用語： ENDOR ,...

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分類 (1件)： 電子核二重共鳴  (BM07072P)

タイトルに関連する用語 (6件)： ENDOR ,  研究 ,  Si ,  水素 ,  ダングリングボンド ,  超微細相互作用