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文献J-GLOBAL ID:200902023104587943整理番号:83A0086297

Highly sensitive self developing electron-beam resist of aldehyde copolymer.

アルデヒド共重合体の高感度自己現象電子線レジスト

著者:HATADA K(Osaka Univ.)、KITAYAMA T(Osaka Univ.)、DANJO S(Osaka Univ.)・・・
資料名:Polym Bull 巻:8 号:9/10 ページ:469-472
発行年:1982年11月
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